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SK하이닉스는 2017년 시설투자 계획을 당초 약 7조원에서 약 9.6조원으로 변경한다고 26일 공시했다.
회사는 "시장환경 변화에 적극적으로 대응하고, 사업경쟁력 강화와 미래성장 기반 확보를 위한 것"이라고 설명했다.
주요 변경 투자 항목은 신규 클린룸 건설, 기반 인프라 및 연구개발(R&D) 투자, D램 수요의 안정적 대응 및 3D 낸드플래시의 생산량 확대 등을 위한 투자 등이다.
전날 회사는 실적 컨퍼런스콜에서 "공정전환의 한계가 있어 시설투자액을 상향을 검토 중"이라고 밝힌 바 있다.
km@fnnews.com 김경민 기자
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