이재용 부회장 30조 투자 평택2라인 가동
업계 최초 EUV 공정 적용한 반도체 출하
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[파이낸셜뉴스] 이재용 삼성전자 부회장이 반도체 초격차를 위해 심혈을 기울인 세계 최대규모의 차세대 반도체 생산라인이 본격 가동에 들어갔다.
삼성전자는 30일 세계 최대 규모의 반도체 공장인 평택 2라인이 가동을 시작했다고 밝혔다. 평택 2라인은 연면적 12만8900㎡로 축구장 16개 크기에 달하는 세계 최대 규모의 반도체 생산라인으로, 총 30조원 이상의 대규모 투자가 진행된다. 관련기사 5면
이 라인에선 업계 최초로 극자외선(EUV) 공정을 적용한 첨단 3세대 10나노급 LPDDR5 모바일 D램이 생산된다. 이번 D램 양산을 시작으로 차세대 V낸드, 초미세 파운드리 제품까지 생산하는 첨단 복합 생산라인으로 만들어진다. 4차 산업 혁명 시대의 반도체 초격차 달성을 위한 핵심적인 역할을 할 것이라는게 삼성전자의 설명이다.
지난 2015년부터 조성된 평택캠퍼스는 289만㎡의 부지를 가진 삼성전자의 차세대 반도체 전초기지다. 평택 1라인은 2017년 6월 양산을 시작했으며, 평택 2라인은 2018년 1월 착공돼 이번에 처음으로 D램 제품을 출하했다.
평택 2라인에서 이번에 출하된 16Gb LPDDR5 모바일 D램은 메모리 양산제품으로는 처음 EUV 공정이 적용됐다. 삼성측은 역대 최대 용량과 최고 속도를 동시에 구현한 업계 최초의 3세대 10나노 LPDDR5 제품이라고 강조했다. 2월 2세대 10나노급 공정으로 역대 최대 용량의 16GB LPDDR5 D램을 양산한 지 6개월 만에, 차세대 공정까지 프리미엄 모바일 D램 라인업을 강화했다.
삼성전자는 글로벌 스마트폰 업체들에게 차세대 16GB 모바일 D램을 업계 유일하게 제공, 내년부터 본격 출시되는 인공지능(AI) 기능이 강화된 5G 플래그십 스마트폰 시장을 선점할 계획이다. 아울러 높은 온도에서도 견딜수 있는 고온 신뢰성도 확보해 전장용 제품까지 사용처를 확대해 나갈 예정이다.
ahnman@fnnews.com 안승현 기자
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