[파이낸셜뉴스]SK하이닉스는 28일 1·4분기 실적 발표 후 열린 컨퍼런스콜에서 "올해 D램 수요 성장률은 20% 수준으로 전망된다"며 "1z 나노미터 수율이 계획보다 빠르게 향상돼 2분기부터 본격적인 램프업이 진행될 예정이며 하반기부턴 EUV를 활용한 1a 나노미터 공정을 통해 D램 기술 경쟁력을 유지할 것"이라고 말했다. 이어 진행된 Q&A 세션에서 나온 '구체적으로 몇 개 레이어에 적용되나'는 질문에 "1a 나노 양산에 처음으로 EUV를 적용하는 만큼 현재 계획으론 한 레이어에 도입할 계획"이라며 "이후 1b, 1c 나노 공정에도 EUV 적용을 확대하겠다"고 답했다. 그러면서 "올해 초 본격적으로 양산용 EUV를 도입해, 성공적 실행을 마친 상황"이라며 "EUV 전담팀을 구성해 해당 기술을 적용하는데 문제 없도록 각고의 노력을 기울이고 있다"고 덧붙였다.
