삼전닉스 120조 투자 물결 타고… 韓거점 늘리는 '슈퍼 을' [반도체 소부장도 '훈풍']

시설투자 따른 매출 '낙수효과'
ASML·램리서치 등 실적 2배 ↑
'팹 밀집' 용인·화성 인프라 확대
엔지니어 등 인재 대거 확보나서

삼성전자와 SK하이닉스가 올해에만 120조원대 규모의 반도체 시설투자에 나서면서 글로벌 반도체 장비기업들의 한국 거점 확대도 가속화될 전망이다. 주요 장비사의 한국 매출은 전년 동기 대비 두 배 가까이 늘어난 것으로 추산된다. 이들 기업은 고객사 생산시설이 밀집한 용인·화성 등 경기 남부에 연구개발(R&D)과 기술지원 시설을 늘리며 국내 투자도 확대하는 모습이다.

■삼성·SK 투자 탄력…장비사 韓매출↑

3일 반도체 업계에 따르면 삼성전자 반도체(DS)부문은 올해 76조8000억원을 투입하는데, 이는 지난해 대비 62% 증가한 규모다. SK하이닉스도 지난해 30조1730억원에서 올해 40조원대 후반으로 투자를 늘릴 것으로 알려졌다.

삼성전자와 SK하이닉스의 시설투자 확대는 글로벌 반도체 장비사들의 사업 기회로 이어진다. 생산라인을 새로 구축하거나 기존 공정을 첨단 공정으로 전환하려면 노광·식각·증착 등 핵심 공정에 쓰이는 장비가 필요하기 때문이다. ASML은 웨이퍼에 미세회로를 새기는 노광장비를, 램리서치와 도쿄일렉트론(TEL)은 회로 형성에 필요한 식각·증착 장비를 공급한다.

특히 고대역폭메모리(HBM)는 첨단 D램 제조부터 칩을 수직으로 쌓고 연결하는 과정까지 정밀한 공정이 필요한 만큼, 고성능 메모리 투자가 늘수록 이를 구현하기 위한 장비 수요도 커지는 구조다.

한국 시장에서 거두는 매출도 증가하고 있다. 각 사 실적 발표에 따르면 ASML의 올해 3·4분기 한국 장비 매출은 약 25억9600만유로로 추산된다. 전년 동기(10억유로) 대비 2.6배 수준이다. 램리서치 한국 매출도 같은 기간 7억9900만달러에서 16억4400만달러로 두 배 이상 늘었다. TEL의 한국 매출은 1907억엔으로 전년 동기 대비 43.9% 증가했다.

내년에도 삼성전자와 SK하이닉스 등 메모리 업체들의 D램 투자가 글로벌 장비 수요를 뒷받침할 전망이다.

팀 아처 램리서치 최고경영자(CEO)는 지난달 실적발표 컨퍼런스콜에서 내년 글로벌 반도체 전공정 장비 투자 규모가 2000억달러를 웃돌 것으로 예상하면서 "투자 증가율은 D램이 주도하고 첨단 파운드리·로직과 낸드가 뒤를 이을 것"이라고 말했다.

■용인·화성에 연구·생산시설 잇따라

삼성전자와 SK하이닉스의 투자는 글로벌 반도체 장비사들의 국내 시설투자로도 이어지고 있다.

특히 삼성전자와 SK하이닉스의 생산시설이 밀집한 경기 남부에 연구·교육시설과 사무소를 늘리는 추세다. 고객사의 신규 생산라인 가동과 공정 전환에 맞춰 장비 설치부터 공정 개발, 유지보수까지 가까운 곳에서 대응할 필요가 커져서다.

TEL은 내년 1월 준공을 목표로 용인사무소를 짓고 있다. 2024년 국내 R&D 시설인 'TTCK-2'를 구축한 데 이은 투자다. 램리서치는 2024년 본사를 성남 판교에서 용인으로 옮겼으며, 같은 해 10월 개관한 용인캠퍼스에서 R&D와 교육시설을 운영하고 있다.

ASML은 지난해 말 약 2400억원을 투입한 화성캠퍼스를 개관한 데 이어 올해 2월 글로벌 트레이닝센터를 가동했다.

화성캠퍼스는 반도체 장비 부품 수리와 엔지니어 기술교육 등을 담당한다.

메모리 호황에 따른 고객사의 생산능력 확충과 첨단공정 전환이 이어지면서 글로벌 장비사들의 국내 거점 투자와 인력 확보에도 속도가 붙을 전망이다.

업계 관계자는 "글로벌 장비사들 고객 수요에 맞게 필드 엔지니어와 테크니션 및 R&D 분야를 중심으로 엔지니어를 채용하는 추세"라면서 "메모리 호황에 따른 조직 확대가 예상되는 만큼 인재 확보 및 시설투자도 늘어날 것으로 보인다"고 말했다.

[email protected] 박지연 임수빈 기자

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