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사회
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테스, 실리콘 산화막 건식 식각 방법 특허권 취득
파이낸셜뉴스
입력 2010.12.10 13:44
수정 2010.12.10 13:44
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테스는 반도체 제조 장비 및 이를 이용한 실리콘 산화막 건식 식각 방법에 대한 특허권을 취득했다고 10일 공시했다.
테스측은 "반도체식각장비와 관련된 것으로 이 특허기술을 장비 제조 및 개발에 활용해 기술경쟁력 및 원가경쟁력을 향상시킬 계획이다"고 전했다.
/pio@fnnews.com 박인옥기자
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