삼성전자,30조 넘는 대규모 투자
3세대 10나노급 모바일D램 양산
삼성전자는 30일 세계 최대 규모의 반도체공장인 평택 2라인이 가동을 시작했다고 밝혔다. 평택 2라인은 연면적 12만8900㎡로 축구장 16개 크기에 달하는 세계 최대 규모의 반도체 생산라인으로, 총 30조원 이상의 대규모 투자가 진행된다. 이 라인에선 업계 최초로 극자외선(EUV) 공정을 적용한 첨단 3세대 10나노급 LPDDR5 모바일 D램이 생산된다. 이번 D램 양산을 시작으로 차세대 V낸드, 초미세 파운드리 제품까지 생산하는 첨단 복합생산라인으로 만들어진다. 4차 산업혁명 시대의 반도체 초격차 달성을 위한 핵심 역할을 할 것이라는 게 삼성전자의 설명이다.
지난 2015년부터 조성된 평택캠퍼스는 289만㎡ 부지를 가진 삼성전자의 차세대 반도체 전초기지다. 평택 1라인은 2017년 6월 양산을 시작했으며, 평택 2라인은 2018년 1월 착공돼 이번에 처음으로 D램 제품을 출하했다.
평택 2라인에서 이번에 출하된 16Gb LPDDR5 모바일 D램은 메모리 양산제품으로는 처음 EUV 공정이 적용됐다. 삼성 측은 역대 최대용량과 최고속도를 동시에 구현한 업계 최초의 3세대 10나노 LPDDR5 제품이라고 강조했다.
ahnman@fnnews.com 안승현 기자
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