[파이낸셜뉴스] 중국의 유명 관광지를 방문한 미국의 유명 디자이너가 독특한 옷차림 때문에 쫓겨나는 일이 발생했다.
19일(현지시간) 홍콩 사우스차이나모닝포스트(SCMP) 등에 따르면 미국의 유명 패션 디자이너 릭 오웬스가 최근 디자이너 듀오 페칼 매터 등 지인들과 함께 중국 자금성을 방문했다가 관계자로부터 퇴장해 달라는 요구를 받았다.
자금성 방문 수칙에는 "옷차림을 단정히 하고 외관을 해치거나 이미지를 손상하는 행동은 금지돼 있으며, 옷차림이 단정하지 않으면 입장이 거부될 수 있다"고 쓰여 있다.
이와 관련해 오웬스의 일행이었던 모델 페칼 매터는 사회관계망서비스(SNS)를 통해 불만을 토로했다.
당시 자금성 입구에서 사진을 찍던 이들에게 자금성 관계자들은 화장을 지우고 정상적인 복장으로 갈아입은 뒤 입장해달라고 요구했다고 한다.
이에 페칼 매터는 "굴욕적이고 비인간적인 사건"이라며 "스타일링은 내 정체성을 상징하기 때문에 거절했다"고 토로했다.
그는 "보안요원이 우리를 내보낼 때 잘못한 것도 없는데 범죄자가 된 기분이었다"면서도 "전 세계 사람들이 우리를 받아들이지 못한다는 점을 이해한다. 이는 우리가 정체성을 지키기 위해 치르는 대가"라고 했다. 그러면서 "우리는 사람들을 통제하고 표현의 자유를 없애려는 사람들에 맞서 싸울 것"이라고 강조했다.
한편 현지에서는 복장 문제로 인해 관광지에서 쫓겨난 사례를 두고 의견이 엇갈렸다.
일부 누리꾼들은 복장의 자유를 언급하며 "문제가 없다"고 주장했고, 또 다른 일부는 "개성도 중요하지만 다른 나라의 관광지를 방문하는 만큼 현지의 역사와 문화를 존중해야 한다"라는 입장을 보였다.
newssu@fnnews.com 김수연 기자
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