1심 징역 1년→2심 징역 1년 6개월
다른 직원 4명도 징역형 확정
[파이낸셜뉴스] SK하이닉스의 반도체 핵심 기술을 중국 경쟁업체에 유출한 혐의로 재판에 넘겨진 협력사 부사장에게 실형이 확정됐다.
대법원 1부(주심 신숙희 대법관)는 12일 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 기소된 A씨에게 징역 1년 6개월을 선고한 원심을 확정했다.
함께 재판에 넘겨진 연구소장 등 직원 3명은 징역 1년~1년 6개월을, 직원 1명은 징역 8개월에 집행유예 2년을 확정받았다. 행위자와 법인을 함께 처벌하는 양벌규정에 따라 기소된 협력사 법인에는 벌금 10억원이 확정됐다.
A씨 등은 2018년 8월부터 2020년 6월까지 SK하이닉스의 HKMG 반도체 제조 기술과 세정 레시피 등 반도체 관련 핵심 기술 등을 중국 반도체 경쟁업체에 유출한 혐의로 재판에 넘겨졌다.
HKMG는 누설 전류를 막고 정전용량을 개선한 차세대 공정으로, D램 반도체의 속도를 높이면서도 소모 전력을 줄일 수 있는 신기술이다.
삼성전자와 자회사인 세메스의 전직 직원들을 통해 몰래 취득한 세메스의 초임계(액체와 기체를 구분할 수 없는 상태) 세정장비 도면 등 반도체 첨단기술과 영업비밀을 활용해 중국 수출용 장비를 개발한 혐의도 있다.
1심은 A씨에게 징역 1년을 선고했지만 2심은 징역 1년 6개월로 형량을 높였다. 아울러 1심에서 징역형 집행유예를 선고받은 직원 3명은 징역 1년~1년 6개월의 실형으로, 1심에서 무죄를 선고받은 직원 1명은 징역 8개월에 집행유예 2년으로 형량이 올라갔다.
항소심이 1심과 달리 SK하이닉스와 공동 개발한 기술 정보를 다른 업체에 알려준 혐의를 유죄로 판단한 데 따른 것이다.
2심 재판부는 "피고인들의 범행은 피해 회사뿐 아니라 우리나라 산업 전반에 큰 영향을 미쳤다"며 "특히 부사장 A씨는 최종 결정권자로서 범행을 지휘하고 깊이 관여했다"고 지적했다.
검찰과 피고인 모두 불복했지만, 대법원은 원심 판단에 잘못이 없다고 보고 상고를 기각했다.
jisseo@fnnews.com 서민지 기자
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