삼성전자가 이르면 연내 극자외선(EUV) 노광 공정에 '펠리클'을 투입할 전망이 나오면서 국일제지의 자회사 국일그래핀이 그래핀 펠리클(Pellicle) 부품 개발을 추진 글로벌 기업과 협력 중인 국일제지(078130)가 강세다. 펠리클은 노광공정 중 발생할 수 있는 마스크(반도체 회로가 그려진 판) 오염을 방지하는 부품이다. EUV가 최근 도입된 기술이다보니 삼성전자는 EUV용 펠리클을 그간 사용하지 않았는데, 곧 새로운 소재부품 수요가 창출될 것으로 예상된다. 23일 업계에 따르면 현 EUV 장비에 펠리클을 적용할 방침을 세운 것으로 파악됐다. 일각에서 삼성전자가 차기 EUV 장비인 '하이 NA'부터 펠리클을 활용할 것이란 관측이 제기됐지만 현재의 EUV 양산 라인에 펠리클을 적용할 계획이다. 이 사안에 정통한 업계 관계자는 “EUV 펠리클을 도입하면 공정 속도가 늦어져 삼성전자가 도입을 망설였던 것으로 안다”며 “그러나 최근 투과율 등 펠리클 성능이 개선되고 있어 현재 EUV 양산 라인부터 적용하기로 방침을 정했다”고 전했다. 삼성전자는 이에 자체 개발과 동시에 국내 기업들과 협력하며 EUV 펠리클 다변화를 추진했다. 성과들이 가시화돼 적용 계획을 세우고 있는 것으로 풀이된다. 한편 국일그래핀은 지난해 그래핀 펠리클 부품 개발을 추진한다는 발표에 이어 투과율 85%이상 가능한 기술 개발 성과를 위해 연구중이라고 알려져있어 투자자들의 관심이 몰린 것으로 풀이된다.

[파이낸셜뉴스] 특수지 전문기업 국일제지는 오는 11월 29일 서울 영등포구 여의도동 금융투자교육원 5층에서 그래핀 및 펠리클 관련 기술 개발과 사업진행 현황, ESG(기업의 환경∙사회∙지배구조) 관련 친환경 제품 개발 현황 등에 대해 발표하는 기업설명회(IR)를 개최한다고 5일 밝혔다. 회사 관계자는 "신제품 및 신사업의 진행 현황이 주요 내용으로 이루어진다”며 “특히 그래핀 기술에 대한 설명, ESG 관련 친환경 제품에 대한 사업 진행 현황, 향후 계획이 발표될 예정"이라고 전했다. 실제 이번 기업설명회에서 자회사인 국일그래핀 성남 PM센터의 그래핀 양산화 진행 상황에 대한 설명과 펠리클을 소개하는 등 소통을 강화할 예정이다. 또 제지사업부문의 ESG경영에 맞춘 친환경 신규 개발제품 등을 선보여 ESG 선도기업으로 위상을 확립해 나갈 계획이다. 사회가 요구하는 사회적, 환경적, 가치를 창출해 주주가치제고를 확대할 방침이다. 한편 국일제지는 지난 2018년 100% 자회사인 국일그래핀을 설립해 국내외 관련 기술 특허를 보유 중이다.   kakim@fnnews.com 김경아 기자

[파이낸셜뉴스] 특수지 전문기업 국일제지의 자회사 국일그래핀이 그래핀 기계장치에 관한 특허를 등록했다고 19일 밝혔다. 특허 명칭은 ‘그래핀 증착장치(Graphene layer deposition apparatus, 등록번호: 1024386640000)’다. 이번 특허는 티타늄 증착 공정에 비해 상대적으로 공정시간이 많이 소요되는 그래핀 합성 공정의 시간차를 고려해 개발됐다. 티타늄층이 형성된 기판들을 복수의 그래핀 형성부로 분할해 이송하고 복수의 그래핀 형성부로부터 다량의 그래핀이 합성되도록 하기 위해 발명됐다. 회사 관계자는 “해당 기술은 자사에서 보유한 저온 무전사 박막 그래핀 합성 기술을 바탕으로 ‘다중챔버를 활용한 그래핀 합성부’의 공정시간을 단축해 생산하는 것을 구체화했다는 점에 의의가 있다”라고 설명했다.  한편 이 회사는 해외 유수 기업으로부터 기술력을 인정받아 설비 증설 등 제안을 검토 중에 있다. kakim@fnnews.com 김경아 기자

[파이낸셜뉴스] 특수지 전문기업 국일제지는 자회사 국일그래핀이 그래핀 펠리클(Pellicle) 부품 개발 추진에 힘입어 글로벌 기업과의 협력 방안 논의를 진행할 것이라고 28일 밝혔다. 앞서 국일그래핀은 지난달 그래핀 펠리클 부품 개발을 추진한다는 발표에 이어 투과율 85%이상 가능한 기술 개발 성과를 위해 연구중이며 앞으로의 성과가 기대된다고 회사측은 전망하고 있다. 펠리클은 빛으로 반도체 웨이퍼에 회로를 찍는 노광공정에 사용되는 오염방지 부품으로 포토마스크 교체 주기를 줄여 공정비용 절감과 생산성 향상에 효과적이다. 업계에서는 펠리클 도입을 필수로 보고 있어 굴지의 대기업들도 상용화를 위한 투자확대, 자체 개발과 외부 협력을 동시에 추진하고 있다. 특히 EUV 펠리클은 수십nm 미만의 얇은 두께를 유지하면서도 90% 투과율, 균일성, 반사율 등 다양한 사양을 동시 충족해야 한다. 어려운 조건에도 불구하고 또한 EUV공정을 적용한 반도체 생산량과 EUV 레이어 수가 증가하면서 펠리클 및 검사 장비의 수요도 증가하고 있다. 현재 펠리클의 연 시장규모는 4조 5천억원 수준에 이를 것이라 추정하고 있다. 회사 관계자는 “자사에서 컨퍼러스 콜 및 지난주 해외방문을 통해 다국적 기업 A사 등과 지속적 논의를 진행하고 있다”며 “협력방안 추진을 위한 자사 방문 일정들이 가시적으로 잡혀지고 있어 향후 시장 진입시점의 구체화 되는 터닝포인트 계기가 될 것”이라고 말했다. kakim@fnnews.com 김경아 기자

[파이낸셜뉴스]특수지 전문기업 국일제지의 자회사 국일그래핀은 회사의 사외이사로 재직중인 윤순길 교수(충남대)가 이달 13일부터 15일까지 덴마크 코펜하겐에서 개최되는 GSENN2022 컨퍼런스에 참가한다고 14일 밝혔다. GSENN2022는 나노기술 및 나노소재 커뮤니티와 관련 분야의 핵심주체들이 모이는 행사다. 나노소재 등을 비롯한 분야, 촉매 및 표면공정, 스마트 그래핀 소재, 나노입자 강화분광학, 나노기술 위험 등 연구 교류 및 탐구에 대한 취지로 진행된다. 이번 컨퍼런스에서 윤순길 사외이사는 저온 성장된 무전사 그래핀의 Stretchability 관한 내용으로 약 40분 동안 기조강연을 한다. 더불어 약 한달간 네덜란드의 K교수 LAB실에서 그래핀이 적용된 반도체 공동연구를 진행한다고 회사측은 전했다.  khj91@fnnews.com 김현정 기자

[파이낸셜뉴스] 특수지 전문기업 국일제지는 자회사 국일그래핀이 국내외 업체와 협업을 통해 현재 그래핀 기반 펠리클(Pellicle) 부품 개발에 나선다고 11일 밝혔다. 펠리클은 빛으로 반도체 웨이퍼에 회로를 찍는 노광공정에 사용되는 오염방지 부품으로 포토마스크 교체 주기를 줄여 공정비용 절감과 생산성 향상에 효과적이다. 펠리클은 EUV(극자외선) 장비에서 높은 투명성과 고온 저항성이 요구된다고 알려져 있다. 회사 관계자는 “EUV펠리클 소재 요구 특성이 매우 까다로워 국내외에서 실리콘 소재, 은나노, 그래핀, 탄소나노튜브 등 여러 신소재와 복합물질을 펠리클 소재로 응용하고자 연구개발되고 있다”며 “그 중 그래핀은 높은 투광성과 강도 등으로 EUV펠리클에 유용한 재료다”고 설명했다. 한편 국일그래핀은 국내외 유일의 비전사 CVD 박막 그래핀 합성 기술을 보유하고 있다. 이 회사는 보유기술을 통해 반도체 EUV설비 필수 부품 중 하나인 펠리클 뿐만 아니라 투명전극, 디스플레이 등 그래핀을 활용한 다양한 분야에서 다수 기업과 협업을 통한 연구개발에 박차를 가하고 있다. kakim@fnnews.com 김경아 기자

[파이낸셜뉴스] 특수지 전문기업 국일제지 자회사 국일그래핀이 ‘대면적 그래핀 증착방법 및 이를 이용한 그래핀 연속 증착 장치’ 특허 등록을 완료했다고 13일 밝혔다. 해당 특허는 필름 기판을 공급 및 회수하는 필름 이송부를 포함한 롤투롤 공정(Roll-to-Roll processing) 장치를 구비하고 티타늄 층을 증착시켜 형성하는 스퍼터(Sputter)부와 티타늄층에 그래핀을 성장시키는 인젝터(Injector)를 포함하는 제조방식의 내용을 담고 있다. 각 공정은 독립된 챔버로 나누어져 이루어진다. 필름 기판 위에서 티타늄 층을 증착시킨 후 환원가스와 반응가스가 섞이지 않도록 한다. 이를 위해 티타늄 층을 환원단계와 그래핀 성장단계로 시간적 분할함과 동시에 퍼지가스로 환원가스와 반응가스의 공급 영역이 공간적으로도 분할된다. 환원가스와 반응가스가 섞여서 발생하는 파티클을 방지해 고품질의 그래핀을 제조할 수 있다. 국일제지 관계자는 “저온 무전사 그래핀 제조기술에 관한 국내외 특허 및 장치부분까지 특허를 보유함으로써 기술력을 확보하고 특허를 토대로 테스트를 지속하고 있다”며 “국일그래핀의 성남PM센터에서 다방면의 연구를 통해 무전사 그래핀의 우수한 성질을 가지는 제품 개발에도 힘쓰는 중”이라고 설명했다. taeil0808@fnnews.com 김태일 기자

[파이낸셜뉴스] 특수지 전문기업 국일제지의 자회사 국일그래핀이 대면적 그래핀 증착방법 및 이를 이용한 그래핀 연속 증착 장치(Method for forming large area graphene layer and grapheme layer deposition apparatus using the same, 등록번호: 10-2370692) 특허 등록을 완료했다고 13일 밝혔다. 본 특허의 구체적 제조방법은 필름 기판을 공급 및 회수하는 필름 이송부를 포함한 롤투롤 공정(Roll-to-Roll processing)장치를 구비하고 티타늄층을 증착시켜 형성하는 스퍼터(Sputter)부와 티타늄층에 그래핀을 성장시키는 인젝터(Injector)를 포함하고 있다. 각 공정은 독립된 챔버로 나누어져 이루어지는 생산방식이다. 필름 기판 위에서 티타늄층을 증착 시킨 후 환원가스와 반응가스가 섞이지 않도록 티타늄층을 환원단계와 그래핀 성장단계가 시간적으로 분할함과 동시에 퍼지가스로 환원가스와 반응가스의 공급 영역이 공간적으로도 분할된다. 환원가스와 반응가스가 섞여서 발생하는 파티클을 방지해 고품질의 그래핀을 제조할 수 있다. 국일제지 관계자는 “저온 무전사 그래핀 제조기술에 관한 국내외 특허 및 장치부분까지 특허를 보유함으로써 기술력을 확보하고 특허를 토대로 기술 테스트를 지속적으로 하고 있다”며 “국일그래핀의 성남PM센터에서 다방면의 연구를 통해 무전사 그래핀의 우수한 성질을 가지는 제품 개발 과정과 테스트를 진행하고 있다”고 설명했다. 그는 이어 “고객사들과 협의 및 기술미팅을 통해 가시적 성과 창출을 목표로 하고 있다”고 덧붙였다. dschoi@fnnews.com 최두선 기자

[파이낸셜뉴스]  국일그래핀이 12인치급 신규 그래핀 제조설비를 추가 도입했다. 특수지 전문기업 국일제지의 자회사 국일그래핀이 기존 12인치 다중 챔버와 R2R 설비 외 세계 최초의 12인치 원 챔버(Single Chamber) 그래핀 제조설비를 추가 제작해 성남피엠센터(PM, Pilot Manufacturing)에 설치했다고 11일 밝혔다. 이번 입고된 제조설비는 기존 다중 챔버(Multiple chamber) 외 하나의 챔버(Single Chamber)에서 티타늄(Ti) 버퍼층을 올리고 매체 이동없이 연이어 탄소 분해를 통한 직성장으로 그래핀 박막을 증착한다. 기존 12인치 Batch식 제조설비의 다중 챔버(Multiple chamber)와는 달리 하나의 챔버에서 두 공정을 연속으로 진행하는 차이가 있다. 이 회사는 이번 제조설비 도입으로 여러 종류의 매체에 적용할 수 있을 것으로 기대하고 있다. 기존 12인치 Batch식 제조설비는 12인치 이하 다양한 사이즈 제작이 가능하고 다중챔버를 활용해 단단한(리지드; Rigid) 평면 그래핀 제조를 목표로 설계된 장치다. 이번에 추가로 제작된 제조설비는 하나의 챔버로 티타늄 버퍼층의 산화 안정성을 높여 매체 적용이 증대될 것이라고 회사측은 설명했다. 회사 관계자는 “자사가 보유한 독보적 기술과 노하우를 통해 제품의 수정, 보완, 테스트 등은 지속적으로 진행중”이라며 “기술장벽이 매우 높은 CVD 박막 그래핀의 특징만큼 제품의 표준화 작업, 안정화 단계 등에 자사도 많은 공을 들이고 있다”고 말했다. 이어 “다방면의 공동연구를 통해 무전사 그래핀의 우수한 성질은 유지하고 다양한 제품 적합성을 테스트 하는 과정에 있다”고 덧붙였다. 한편, 국일그래핀는 저온 무전사 그래핀 제조기술에 관한 국내외 특허를 다수 보유하고 있다. 이 회사는 독창적인 제조 기술을 토대로 반도체, 투명전극, ITO 등 활용분야는 물론 향후 응용 기술개발 가능성도 높게 내다보고 있다. kakim@fnnews.com 김경아 기자

[파이낸셜뉴스] 특수지 전문기업 국일제지는 자회사 국일그래핀이 두 번째 미국 특허를 완료했다고 28일 밝혔다. 특허 명칭은 ‘Transfer-Free Method for Producing Graphene Thin Film’(등록번호: US 11,124,870 B2)다. 본 특허는 전사공정 없이 기판 상에 결정성이 우수한 고품질의 단일막 그래핀 박막을 제조하는 실질적인 방법이다. 표적 기판 위에 티타늄 촉매층을 형성하는 단계, 상기 티타늄 촉매층 위에 그래핀 박막을 성장시키는 방법으로 기존 열분해 기상증착방법(Thermal CVD)과 더불어 플라즈마 기상증착방법(PAT-CVD)을 사용하는 고효율 방법을 설명하고 있다. 특허 보정단계에서 여러 인용발명과 수치상으로 명확하게 차별성을 나타내는 등 독자적인 단일막 그래핀 제조 방법이다. 회사 관계자는 “저온 무전사 그래핀 제조기술에 관한 국내외 특허 다수를 보유해 독창적인 제조 기술을 토대로 반도체, 투명전극 등 향후 다양한 활용분야에 응용 및 기술개발 가능성을 높게 내다보고 있다”고 말했다. 한편, 국일그래핀은 그래핀 박막 양산기술 관련된 기술특허 8건을 진행 중이다. 그 중 이미 5건이 등록됐고 3건은 출원 중이다. 국내 출원 중인 특허들은 해외 출원도 동시에 진행중이라고 회사 측은 설명했다. dschoi@fnnews.com 최두선 기자