파운드리(반도체 위탁생산) 분야 절대강자인 대만 TSMC가 글로벌 극자외선(EUV) 포토마스크 제조장비 독점 업체 지분을 취득하면서 향후 2나노 초미세공정 기술 경쟁에 불을 지폈다. 삼성전자는 초미세공정의 핵심인 EUV 노광장비 독점기업인 네덜란드 ASML의 차세대 장비 확보에 공을 들이는 등 반도체 제조사들과 '슈퍼 을'의 합종연횡이 치열해 지고 있다. ■TSMC, 포토마스크 독점업체 지분 참여13일 업계와 외신에 따르면 TSMC는 최근 임시이사회를 열고 인텔이 소유한 오스트리아 극자외선(EUV) 노광장비 포토마스크 제조장비 업체인 IMS의 지분 10% 취득을 의결했다. 또, 영국 반도체 설계 기업인 ARM의 기업공개(IPO)시 공모가를 기준으로 최대 1억달러(약 1328억원) 내 투자도 결정했다. TSMC의 ARM 투자는 파트너사와의 협력관계를 고려한 전략적 판단으로 풀이된다. 삼성전자, TSMC, 인텔, 애플, 퀄컴, 엔비디아 등 글로벌 빅테크들이 ARM의 설계 자산(IP)을 활용하고 있다. 업계에서는 TSMC의 IMS 지분 취득은 '깜짝 발표'라는 반응이 나오고 있다. IMS는 EUV 노광장비용 포토마스크 제조장비 시장의 98%를 점유하고 있다. 인텔은 2009년 지분투자에 이어 2016년 IMS를 인수했다. 지난 6월 인텔은 IMS 사업 지분 약 20%를 사모펀드인 베인캐피탈에 매각했다. 포토마스크는 반도체 회로 설계가 그려진 부품으로 빛이 포토마스크를 통과하면서 웨이퍼에 새길 패턴이 만드는 부품이다. IMS가 생산하는 '멀티 빔 마스크 라이터(writer)'는 얇은 회로를 더 정확하고 빠른 속도로 포토마스크를 제작할 수 있어 반도체 업계의 패러다임을 바꿨다는 분석도 있다. 업계에서는 IMS의 장비 없이는 ASML의 EUV 노광장비도 무용지물이라는 평가까지 나온다. 반도체 업계 관계자는 "ASML의 차세대 노광장비인 ''하이 뉴메리컬어퍼처(하이NA) EUV'를 염두한 결정으로 보인다"면서 "7나노 이하 초미세공정에서 노광장비의 중요성이 커지면서 TSMC도 기존 기술협력에서 더 나아간 것"으로 해석했다. ■삼성, ASML 동맹 견고TSMC를 추격 중인 삼성전자는 2012년 차세대 노광기 개발 협력을 위해 ASML 지분 3.0%를 약 7000억원에 매입한 바 있다. 2016년 투자비 회수 차원에서 ASML 보유 지분 절반을 매각했으며, 올해 한 차례 더 매각을 진행해 2·4분기 말 기준 0.7%의 지분만 보유하고 있다. 업계에서는 삼성전자가 ASML의 지분을 줄였지만 양사의 협력관계는 견고한 것으로 보고 있다. 미래 파운드리 경쟁 분야인 2나노 이하 초미세 공정 반도체 구현에 필요한 기술 사양을 갖춘 것으로 알려진 차세대 EUV 노광장비인 하이NA가 연내 시제품 출시 및 내년 본격 공급될 예정이라 삼성전자가 물량 확보에 공을 들이는 것으로 알려졌다. SK하이닉스, TSMC, 인텔도 ASML의 차세대 노광장비 확보전에 뛰어들 전망이다. 업계 관계자는 "초미세 공정을 위해서는 EUV 노광장비에 대한 의존도가 높은 상황"이라면서 "삼성을 비롯한 반도체 공룡들의 ASML 장비 확보전은 이전보다 더 치열해질 전망"이라고 내다봤다. 한편, 최근 2나노를 두고 반도체 업체간 경쟁이 격화되고 있다. TSMC는 지난 6월 2나노 제품의 시범 생산을 위한 준비작업에 들어갔다고 밝히며 선두 지키기에 나선 가운데, 삼성전자는 TSMC보다 먼저 개발한 게이트올어라운드(GAA) 공정으로 역전극에 나서겠다는 계획이다. 양사 외에도 인텔과 라피더스가 2나노전에 참전하면서 초미세공정 경쟁이 격화될 예정이다. rejune1112@fnnews.com 김준석 기자

윤석열 대통령이 리투아니아에서 열린 북대서양조약기구(NATO·나토) 정상회의 참석을 계기로 보편적 가치를 공유하는 국가들과 첨단산업, 핵심광물, 소재·부품·장비 공급망 강화에 공을 들였다. 최상목 대통령실 경제수석은 12일(현지시간) 빌뉴스 현지에 마련된 프레스센터에서 브리핑을 갖고 "윤 대통령이 빡빡한 일정 속에서도 13개 나라와 양자회담을 갖고 경제협력을 논의했다"며 노르웨이, 포르투갈, 뉴질랜드, 헝가리, 루마니아, 스웨덴, 영국, 에스토니아, 일본 등의 국가를 열거했다. 특히 윤 대통령은 경제협력을 위한 양자회담에서 첨단산업 공급망 강화에 집중했다. 윤 대통령은 마르크 뤼터 네덜란드 총리를 만나 반도체 투자지로서 한국의 장점을 상세히 설명하고, 현금 지원과 세액공제 등 인센티브를 약속하면서 ASML의 투자를 요청했다. 네덜란드 ASML은 반도체 노광장비 세계 1위 기업이다. 전기차와 배터리 공급망 강화에도 성과를 거뒀다. 윤 대통령이 양자회담을 가진 폴란드와 헝가리는 한국 기업이 진출해 유럽의 전기차 생산의 '심장' 역할을 하고 있다. 윤 대통령은 이 외에도 △유럽 최대 희토류 광산을 보유한 스웨덴 △유럽 최대 리튬 매장량을 보유한 포르투갈 △니켈 생산국인 핀란드 등과 핵심광물 협력 등 전기차와 배터리 공급망을 더욱 강화하기로 뜻을 모았다. 에너지 공급망 분야에서 윤 대통령은 수력 등 재생에너지가 풍부해 그린수소 생산·저장·운송에 강점이 있는 노르웨이와 상호 보완적 협력을 확대하기로 했다. 최 수석은 "노르웨이 국영 에너지기업인 에퀴노르의 한국 투자를 계기로 해상풍력 분야에서의 협력과 함께 탄소 포집·저장기술과 같은 녹색협력도 강화하기로 했다"고 말했다. 윤 대통령은 신수출시장 확보에도 나섰다. 윤 대통령이 이번에 만난 유럽 정상들은 한결같이 한국과 원전, 방산, 인프라 협력을 강력히 희망했다. 이 가운데서도 윤 대통령은 신규 원전 도입계획이 있는 네덜란드, 헝가리, 루마니아, 스웨덴 정상에게 한국 원전의 우수성을 설명하며 원전협력을 제안했다. 한국과 방산협력에 관심이 있는 노르웨이, 루마니아, 헝가리는 윤 대통령과의 정상회담에서 방산협력을 강화해 나가기로 했다. syj@fnnews.com 서영준 기자

[파이낸셜뉴스] 윤석열 대통령이 리투아니아에서 열린 북대서양조약기구(NATO) 정상회의 참석을 계기로 보편적 가치를 공유하는 국가들과 첨단산업, 핵심광물, 소부장 공급망 강화에 공을 들였다. 최상목 대통령실 경제수석은 12일(현지시간) 빌뉴스 현지에 마련된 프레스센터에서 브리핑을 갖고 "윤석열 대통령이 빡빡한 일정 속에서도 13개의 나라와 양자회담을 갖고 경제협력을 논의했다"며 노르웨이, 포르투갈, 뉴질랜드, 헝가리, 루마니아, 스웨덴, 영국, 에스토니아, 일본 등의 국가를 열거했다. 특히 윤 대통령은 경제협력을 위한 양자회담에서 첨단산업 공급망 강화에 집중했다. 윤 대통령은 마크 루터 네덜란드 총리를 만나 반도체 투자지로서 한국 장점을 상세히 설명하고, 현금 지원과 세액공제 등 인센티브를 약속하면서 ASML의 투자를 요청했다. 네덜란드 ASML은 반도체 노광장비 세계 1위 기업이다. 전기차와 배터리 공급망 강화에도 성과를 거뒀다 윤 대통령은 양자회담을 가진 폴란드와 헝가리에는 한국 기업이 진출해 유럽의 전기차 생산의 심장 역할을 하고 있다. 윤 대통령은 이 외에도 △유럽 최대 희토류 광산을 보유한 스웨덴 △유럽 최대의 리튬 매장량을 보유한 포르투갈 △핵심 니켈 생산국인 핀란드 등과 핵심광물 협력 등 전기차와 배터리 공급망을 더욱 강화하기로 뜻을 모았다. 에너지 공급망 분야에서 윤 대통령은 수력 등 재생에너지가 풍부해 그린수소 생산·저장·운송에 강점이 있는 노르웨이와 상호 보완적인 협력을 확대하기로 했다. 최 수석은 "노르웨이 국영 에너지 기업인 에퀴노르의 한국 투자를 계기로 해상풍력 분야에서의 협력과 함께 탄소 포집·저장 기술과 같은 녹색협력도 강화하기로 했다"고 말했다. 윤 대통령은 신수출시장 확보에도 나섰다. 윤 대통령이 이번에 만난 유럽 정상들은 한결같이 한국과 원전, 방산, 인프라 협력을 강력히 희망했다. 이 가운데서도 윤 대통령은 신규 원전 도입 계획이 있는 네덜란드, 헝가리, 루마니아, 스웨덴 정상에게 한국 원전의 우수성을 설명하며 원전 협력을 제안했다. 한국과 방산 협력에 관심이 있는 노르웨이, 루마니아, 헝가리는 윤 대통령과의 정상회담에서 방산 협력을 지속 강화해 나가기로 했다. 최 수석은 "나토 정상회의를 계기로 진행된 양자 정상회담에서 논의된 협력 의제들은 관련 부처, 기업들이 함께 참여하는 팀 코리아 활동을 통해 체계적인 후속 조치를 진행해 구체적인 성과로 이어질 수 있도록 최선의 노력을 해 나가겠다"고 밝혔다. syj@fnnews.com 서영준 기자

[파이낸셜뉴스] 풍국주정이 장중 강세다. 삼성전자, TSMC 등 글로벌 주요 반도체 기업들이 극자외선(EUV) 노광장비를 도입하면서 핵심 소재인 탄산가스(CO2)가 주목받기 시작해 영향을 받은 것으로 풀이된다. 26일 오후 2시 15분 현재 풍국주정은 코스닥시장에서 전 거래일 대비 7.74% 오른 1만3510원에 거래되고 있다. 이날 관련 업계에 따르면 최근 반도체 업계에서 EUV 노광장비 사용량이 늘어나면서 광원으로 활용되는 탄산가스의 수요가 커지고 있는 것으로 알려졌다. 극자외선을 만들기 위해 EUV 광원을 확보해야 하는 것으로 알려지면서 그 필수 소재인 탄산가스를 두고 투자자들의 옥석가리기 움직임이 본격화된 것으로 풀이된다. 실제 ASML은 독일 산업용 레이저 전문기업인 트럼프가 만든 탄산가스 레이저 설비를 활용하고 있다. 이 같은 소식에 풍국주정을 비롯해 덕양산업(2.64%), 태경케미컬(0.76%) 등도 동반 우상향 추세를 기록하고 있다. 풍국주정은 종속사 선도산업를 통해 탄산가스 생산에 나선다. 이 경우 3개 지역의 산업용가스 사업소와 1개의 고순도 및 특수가스 생산 플랜트를 보유하고, 생산 및 판매를 영위하고 있다. 특히 국내에서 유일하게 나프타 정제공정(Naphtha Cracking Center)을 거친 원료가스를 공급 받아 최신 공법으로 고품질의 아세틸렌을 생산해 반도체 기업에 공급하고 있어 기대감이 몰린다. dschoi@fnnews.com 최두선 기자

[파이낸셜뉴스]삼성전자가 자회사 세메스와 반도체 노광 분야 소재·장비 국산화에 박차를 가하고 있다는 소식에 코디엠이 강세다. 코디엠은 세메스에 노광 공정용 트랙 장비를 공동 개발하고 OEM으로 납품 중이다.  6일 오전 10시 17분 현재 코디엠은 전 거래일 대비 48원(13.24%) 오른 422원에 거래 중이다. 이날 업계에 따르면 삼성전자는 자회사 세메스의 노광 공정용 트랙 장비 승인(퀄) 테스트를 성공적으로 완료했다. 삼성전자가 테스트한 장비는 불화아르곤이머전(ArFi)용 트랙 장비다. 업계에서는 내년께 삼성전자 반도체 라인에 처음으로 이 장비를 들일 것으로 보고 있다. 업계에서는 삼성전자의 노광 분야에서의 국산화 작업이 상당히 고무적이라는 평가다. 노광 공정은 동그란 웨이퍼 위에 빛으로 회로 모양을 찍어내는 공정이다. 반도체 공정에서 가장 중요한 작업으로 꼽힌다. 다만 노광 분야에서 쓰이는 소재와 장비는 대부분 해외에서 수입하는 실정이다. 트랙 장비는 웨이퍼를 노광기에 투입하기 전 빛과 반응하는 포토레지스트(PR)라는 소재를 골고루 도포해 안정적인 상태로 만드는 역할을 한다. 이 장비는 네덜란드 ASML 등 해외 업체가 주도하는 노광기 분야만큼 해외 의존도가 높다. 특히 일본 최대 반도체 장비 업체인 도쿄일렉트론(TEL)이 트랙 장비 영역에서 상당히 강세다. 삼성전자는 세메스와 협력해 범용 노광 공정인 ArFi 트랙 장비 국산화 시도를 계기로 해외 의존도 낮추기에 고삐를 죌 것으로 예상된다.  한편 코디엠 반기보고서에 따르면 이 회사는 세메스와 반도체 장비 개발에 함께 참여했다. 세정장비, 도포·현상 장비의 OEM 방식으로 공급을 하고 있는 중이다. 코디엠 관계자는 “반도체 공정 7가지 중 3번째 되는 포토 레지스트리라는 장비가 있는데 이 장비를 주로 생산하고 세메스에 납품한다”면서 “우리가 장비 만들어서 세메스에 납품하면 세메스에서 추가로 조립을 한 후 삼성에 보내는 식”이라고 전했다. kmk@fnnews.com 김민기 기자

【도쿄=김경민 특파원】 일본 캐논이 500억엔(약 5000억원)을 투자해 반도체 노광장비 신공장을 짓는다. 캐논이 노광장비 신공장을 건설하는 것은 21년 만이다. 향후 늘어날 반도체 칩 제조 수요에 발맞춰 2025년 신공장을 가동시키고, 현재 노광장비 생산능력의 두배까지 끌어올릴 계획이다. 5일 니혼게이자이신문에 따르면 캐논은 도치기현 우쓰노미야 공장 내 7만㎡ 부지에 반도체 노광장비를 생산하는 신공장을 건설할 예정이다. 노광이란 반도체 웨이퍼에 빛으로 회로를 새기는 작업으로, 최첨단 미세공정의 핵심 기술이다. 캐논은 현재 우쓰노미야와 이바라키현 아미마치 등 2개의 거점에서 노광장비를 생산하고 있다. 2023년에 신공장 착공을 시작해 2025년 봄까지 노광장비 생산 능력을 현재의 두배로 증가시킬 방침이다. 공장 건설 비용과 생산 설비를 포함한 총 투자액은 500억엔 중반대가 될 것으로 보인다. 캐논은 올해 반도체 노광장비 판매 대수를 지난해보다 29% 증가한 180대로 전망하고 있다. 이는 최근 10년 사이 4배 증가한 규모다. 세계반도체시장통계기구(WSTS)에 따르면 세계 반도체 시장은 지난해 5000억달러를 넘어섰고 2030년에는 1조달러에 이를 것으로 예측된다. 캐논의 반도체 노광장비 시장 점유율은 30%로, 네덜란드 ASML(60%)에 이은 세계 2위다. 아울러 캐논은 ASML을 추격하기 위해 '나노 임프린트'이라는 기술을 활용한 차세대 장비 개발도 추진한다. 도장을 찍듯이 웨이퍼 위에 회로를 찍어내는 기술로, 기존보다 낮은 비용으로 미세회로를 새길 수 있는 것이 특징이다. 캐논, 키옥시와, 대일본인쇄 등이 기술 개발을 협력 중이다. 삼성전자와 대만 TSMC 등의 최첨단 반도체를 만들어내기 위해선 극자외선(EUV) 노광장비가 필수이다. 다만 현재 거의 독점인 ASML의 EUV 노광장비는 1대당 200억엔(2000억원)에 육박하는 고가인 데다 소비 전력도 커 업체들의 부담이 만만찮다. 이에 비해 나노 임프린트 노광장비는 최대 40%의 제조 비용과, 90%의 소비전력을 아낄 수 있다는 게 캐논의 설명이다. 닛케이는 "캐논은 나노 임프린트의 판매를 확대해 ASML의 시장지배력을 무너뜨리는 것을 목표로 한다"고 전했다. km@fnnews.com 김경민 기자

[파이낸셜뉴스] 정부가 초미세 반도체 공정 구현에 필요한 차세대 극자외선(EUV) 노광장비의 국내 도입을 위해 가스 안전 분야 규제를 개선한다. 산업통상자원부는 반도체 초강대국 달성 전략의 일환으로 반도체산업에 사용되는 고압가스에 대한 안전혁신과제 11건을 선정했다고 12일 밝혔다. 이 중 반도체 생산장비·저장설비 등에 대한 고압가스 관련 7개 규제를 전문가 검토를 거쳐 신속히 개선해 기업 부담을 완화할 방침이다. 나머지 4개 과제도 관련 단체·업계 간담회와 현장 방문 등을 거쳐 개선 방안을 모색한다.  EUV 장비는 극자외선을 이용해 반도체 회로를 그려주는 노광장비이다. 네덜란드 ASML사(社)가 독점 생산하고 있다. 정부는 우리 기업이 첨단제조설비를 선점해 글로벌 경쟁력을 확보할 수 있도록 차세대 EUV 장비의 국내 도입시 걸림돌로 작용하는 규제를 없앤다.  먼저 차세대 EUV 장비가 고압가스 배관에 신소재인 슈퍼듀플렉스강(스테인레스강 보다 내부식성, 저항성 등이 보완된 소재)을 사용하는 점을 고려해 관련 기준을 개선한다. 현재 우리나라 고압가스 법령에는 신소재 배관에 대한 사용 규정이 없어 EUV 장비의 도입이 불가능한 상황이다. 이에 산업부는 안전성 검토를 거쳐 슈퍼듀플렉스강 등 미국기계학회(ASME)에서 인정받은 소재를 고압가스 배관에 사용할 수 있도록 가스 안전 분야 상세 기준을 개선할 계획이다. 아울러 고압가스 폭발시 인근 주택·학교와 인명 보호를 위해 설치하는 방호벽과 관련된 기준도 일부 완화한다. 반도체 공장은 바닥면이 얇은 경량화된 복층 건물 구조인데 기존 규정은 방호벽 지주를 400㎜ 이상 깊이 묻거나 20㎜ 이상의 앵커볼트를 사용해 고정해야 한다고 명시하고 있어 지주 설치가 어렵다는 지적이다. 이에 정부는 구조기술사 등이 안전성을 확인한 경우에는 접착제 성분의 화학적 물질로 방호벽과 방호벽의 지주를 고정하는 '케미컬 앵커' 등의 다양한 지주 설치 방법을 허용한다는 방침이다. 그동안 두꺼운 콘크리트 재질로 된 방호벽만 설치할 수 있어 공장 증설에 어려움이 있었지만, 안전성이 보장되면 강판제 등 다양한 재질의 방호벽을 허용하도록 관련 기준을 마련함으로써 반도체 공장의 공간 활용도를 높일 계획이다. 이와 함께 공장 내부의 가스용기 보관함(저장용 실린더캐비닛)과 관련한 기준도 개선한다. 현행 규정은 저장용 실린더캐비닛을 공장 내부에 설치할 경우 이 장소의 지붕은 가벼운 불연재료로만 의무적으로 만들도록 규정하고 있어 복층으로 공장을 증설할 경우 가벼운 지붕이 상층의 바닥이 되면서 위층의 하중을 견디기 어렵다는 지적이 제기됐다. 산업부는 전문가 검토를 거쳐 이러한 의무 규정을 면제하는 기준을 마련해 반도체 공장의 복층 증설을 용이하도록 한다는 방침이다. 박일준 산업부 2차관은 "반도체 초강대국 달성을 촉진하고 지원하는 기폭제가 될 수 있도록 이번에 선정된 혁신규제 과제를 신속히 추진하겠다"고 말했다. honestly82@fnnews.com 김현철 기자

반도체 생산 과정에서 가장 중요한 '노광 장비' 공급 부족이 2년간 계속될 것이라는 우려가 나왔다. 노광 장비는 반도체 제조에서 가장 중요한 단계인 설계 회로패턴을 웨이퍼에 전사하는 리소그라피(Lithography) 공정에 사용된다. 노광 장비 생산량 부족으로 반도체 공급망 차질이 향후 2년간 더 지속될 것이라는 우려가 함께 나왔다. 21일(현지시간) 파이낸셜타임스(FT)에 따르면 세계 최대 노광장비 업체인 네덜란드 ASML은 오는 2024년까지 생산이 수요를 따라잡지 못할 것으로 우려했다. ASML 최고경영자(CEO) 페터 베닝크는 "내년과 내후년에도 공급 부족이 지속될 것"이라면서 "올해와 내년에 생산을 확대하고, 출하를 늘릴 계획이지만 수요곡선을 보면 이 정도로는 충분히 않을 것"이라고 우려했다. 베닝크는 "(수요를 맞추려면) 생산능력을 50% 넘게 확대해야 한다"면서 "그러려면 시간이 걸린다"고 말했다. 래디오프리모바일의 기술 담당 애널리스트 리처드 윈저는 ASML이 반도체 공급망에서 가장 핵심적인 단일 사업체라면서 ASML의 리소그래피 장비는 '실리콘 반도체 인쇄기'라고 강조했다. ASML은 700종의 제품을 생산하고 있고, 이 가운데 200개 장비가 핵심 장비이다. 베닝크의 비관적 발언은 전세계 반도체 업체들이 반도체 수급 차질을 해소하기 위해 대대적인 투자에 나선 가운데 나왔다. 인텔은 지난주 유럽내 제조·연구에 약 330억유로를 투자하고, 이후 수요 상황에 따라 2030년까지는 투자 규모를 800억유로로 확대할 수 있다고 밝혔다. 아울러 미국내 생산시설 확대에도 400억달러를 투자하기로 했다. 업계 1위 업체인 대만 TSMC는 앞으로 3년간 1000억달러를 투자할 계획이고, 삼성전자는 2030년까지 1500억달러 투자 계획을 밝힌 상태다. 미국과 유럽 역시 아시아 의존도를 낮추기 위한 정부 차원의 대대적인 투자를 계획하고 있다. 현대 산업의 '쌀'이라는 평가를 받는 반도체는 2030년까지 시장규모가 지금의 2배 수준인 1조달러 규모로 확대될 것으로 예상되고 있다. 이에 맞춰 반도체 업체들이 대대적인 투자 확대에 나서고 있지만 핵심 장비인 노광장비 공급이 달리면 생산확대는 차질이 불가피하다. 인텔 최고경영자(CEO) 팻 젤싱어는 장비 부족이 설비 확대 계획에 직접 차질을 줄 것이라는 점을 잘 알고 있다면서 공급 부족 문제와 관련해 베닝크 ASML CEO와 직접 접촉하고 있다고 밝혔다. 또 자사 직원들을 ASML에 파견해 생산 확대에 도움을 주고 있다고 덧붙였다. 젤싱어는 FT와 인터뷰에서 반도체 설비 확대를 발표했지만 공장을 짓는데 2년 정도 걸린다면서 장비 생산 확대 문제 해결에 아직 시간 여유가 있다고 말했다. 그러나 ASML 역시 가장 복잡한 부품이자 핵심 소재인 렌즈를 독일 광학업체 칼차이스에 의존하고 있어 문제 해결이 쉽지는 않다. 베닝크는 렌즈 추가 확보에도 상당한 시간이 걸릴 것으로 예상했다. 그는 칼차이스가 먼저 청정실을 건설해야 하고, 이를 위해 허가를 받아야 하며, 공장을 만들고, 필요한 장비를 구입해 인력을 채용한 뒤에야 생산에 들어갈 수 있다면서 렌즈 추가 생산에 최소 1년 이상은 걸린다고 말했다. dympna@fnnews.com 송경재 기자

[파이낸셜뉴스]    반도체 생산 과정에서 가장 중요한 '노광 장비' 공급 부족이 2년간 계속될 것이라는 우려가 나왔다. 노광 장비는 반도체 제조에서 가장 중요한 단계인 설계 회로패턴을 웨이퍼에 전사하는 리소그라피(Lithography) 공정에 사용된다. 노광 장비 생산량 부족으로 반도체 공급망 차질이 향후 2년간 더 지속될 것이라는 우려가 함께 나왔다.  21일(현지시간) 파이낸셜타임스(FT)에 따르면 세계 최대 노광장비 업체인 네덜란드 ASML은 오는 2024년까지 생산이 수요를 따라잡지 못할 것으로 우려했다.  ASML 최고경영자(CEO) 페터 베닝크는 "내년과 내후년에도 공급 부족이 지속될 것"이라면서 "올해와 내년에 생산을 확대하고, 출하를 늘릴 계획이지만 수요곡선을 보면 이 정도로는 충분히 않을 것"이라고 우려했다.  베닝크는 "(수요를 맞추려면) 생산능력을 50% 넘게 확대해야 한다"면서 "그러려면 시간이 걸린다"고 말했다.  래디오프리모바일의 기술 담당 애널리스트 리처드 윈저는 ASML이 반도체 공급망에서 가장 핵심적인 단일 사업체라면서 ASML의 리소그래피 장비는 '실리콘 반도체 인쇄기'라고 강조했다.  ASML은 700종의 제품을 생산하고 있고, 이 가운데 200개 장비가 핵심 장비이다.  베닝크의 비관적 발언은 전세계 반도체 업체들이 반도체 수급 차질을 해소하기 위해 대대적인 투자에 나선 가운데 나왔다. 인텔은 지난주 유럽내 제조·연구에 약 330억유로를 투자하고, 이후 수요 상황에 따라 2030년까지는 투자 규모를 800억유로로 확대할 수 있다고 밝혔다. 아울러 미국내 생산시설 확대에도 400억달러를 투자하기로 했다. 업계 1위 업체인 대만 TSMC는 앞으로 3년간 1000억달러를 투자할 계획이고, 삼성전자는 2030년까지 1500억달러 투자 계획을 밝힌 상태다. 미국과 유럽 역시 아시아 의존도를 낮추기 위한 정부 차원의 대대적인 투자를 계획하고 있다. 현대 산업의 '쌀'이라는 평가를 받는 반도체는 2030년까지 시장규모가 지금의 2배 수준인 1조달러 규모로 확대될 것으로 예상되고 있다. 이에 맞춰 반도체 업체들이 대대적인 투자 확대에 나서고 있지만 핵심 장비인 노광장비 공급이 달리면 생산확대는 차질이 불가피하다.  인텔 최고경영자(CEO) 팻 젤싱어는 장비 부족이 설비 확대 계획에 직접 차질을 줄 것이라는 점을 잘 알고 있다면서 공급 부족 문제와 관련해 베닝크 ASML CEO와 직접 접촉하고 있다고 밝혔다. 또 자사 직원들을 ASML에 파견해 생산 확대에 도움을 주고 있다고 덧붙였다. 젤싱어는 FT와 인터뷰에서 반도체 설비 확대를 발표했지만 공장을 짓는데 2년 정도 걸린다면서 장비 생산 확대 문제 해결에 아직 시간 여유가 있다고 말했다. 그러나 ASML 역시 가장 복잡한 부품이자 핵심 소재인 렌즈를 독일 광학업체 칼차이스에 의존하고 있어 문제 해결이 쉽지는 않다. 베닝크는 렌즈 추가 확보에도 상당한 시간이 걸릴 것으로 예상했다. 그는 칼차이스가 먼저 청정실을 건설해야 하고, 이를 위해 허가를 받아야 하며, 공장을 만들고, 필요한 장비를 구입해 인력을 채용한 뒤에야 생산에 들어갈 수 있다면서 렌즈 추가 생산에 최소 1년 이상은 걸린다고 말했다.  dympna@fnnews.com 송경재 기자

세계 최대의 반도체 장비 업체인 ASML이 극자외선(EUV) 노광장비의 성능 향상을 인정 받았다. ASML은 EUV노광장비인 NXE: 3300B가 24시간 이내에 약 600장 규모의 웨이퍼를 처리하게 됐다는 사실을 고객사로부터 확인했다고 9일 밝혔다. 이는 고객사가 요구했던 하루 500장 규모의 웨이퍼 처리 능력을 넘는 결과다. 이번 테스트는 EUV장비의 내구성을 실험하고 생산성을 확인하기 위한 절차다. ASML은 이미 지난 7월 진행됐던 유사 테스트에서 1일 637장의 웨이퍼 처리 능력을 인정 받은 바 있다. hwyang@fnnews.com 양형욱 기자