[파이낸셜뉴스]  CTT리서치는 11일 에프에스티에 대해 연초 EUV펠리클 전용 공장 착공으로 연내 시양산이 임박했고 반도체 업황 개선으로 인한 호재가 기대된다고 진단했다. 다만 투자의견과 목표주가는 제시하지 않았다. CTT리서치에 따르면 에프에스티는 지난해 11 월 발표한 330억 규모의 펠리클 신규시설투자와 별개로 연초 EUV펠리클 전용 공장을 착공했다. 투자규모는 약 190 억 수준으로 하반기 중 완공하고 연내 고객사에 시양산품을 공급할 예정이다. CTT리서치는 “2025 년에는 본격적인 양산을 통해 국산화가 시작될 전망인데, 양산 제품은 투과율 95% 이상, 600W 급 Hi-NA EUV 에서도 적용가능한 스펙이 될 것”이라며 “현재 EUV 펠리클의 가격은 2000~3000 만원 수준으로 ArF 펠리클 대비 50배를 넘어서고 있는 상황”이라고 밝혔다. 그러면서 “동사가 연간 생산 중인데 펠리클의 5%인 1.5 만장의 EUV 펠리클 신규 수요와 공급가를 장당 1000 만원으로 가정하면 연간 1500 억의 신규 매출이 발생할 정도로 EUV 펠리클 양산은 동사의 실적을 큰 폭으로 증가시키게 될 것“이라며 ”반도체 업황 개선 효과와 11월 신규 공장 가동도 긍정적“이라고 강조했다. 실제 최근 반도체 기업들이 가격 인상을 통보하며 상승 사이클에 접어들기 시작했고, 동사의 주요 고객사도 서서히 가동률을 높일 것으로 예상된다는 전망이다. CTT리서치는 “2023년 고객사의 감산에 따른 펠리클 부문 실적 부진은 올해 1분기를 바닥으로 턴어라운드 할 것으로 전망된다”라며 “또, 하반기 신규공장이 완공되면 펠리클 Capa 가 연 30만장에서 45만장으로 증가해 반도체 상승 사이클에 힘입어 올 4분기 부터 실적이 한 단계 성장하게 될 것”이라고 짚었다. 여기에 최근 진행된 대표이사의 장내매수가 향후 추가 지분확보 이어질 것으로 예상 돼 이 점도 호재라는 판단이다. 지난 5 일 장경빈 대표이사는 1만 3398 주를 장내매수 했다. 오너 2세인 장 대표이사는 동사의 지분 8.45%를 보유하고 있는 2 대주주 시엠테크놀로지의 20%를 보유하며 실질적으로 1.69%의 동사 지분을 확보중이지만 동사에 10 년간 근무하며 직접 지분을 취득한 것은 이번이 처음이다. CTT리서치는 “최대주주인 장명식 회장에 이어 2022년부터 2세 경영 체제를 시작했고, 내년부터는 증설 효과와 EUV 펠리클 국산화에 따른 실적 증가로 기업가치가 리레이팅 될 것으로 예상되는 만큼 그전에 지분 확보를 하는 것이 유리하다는 판단에 따른 것이라 생각된다”라며 “아울러 작년 발행한 교환사채 중 23만 6686 주에 대해 콜옵션을 행사할 가능성도 큰 것으로 파악되며, 추가 지분 확보와 관련해 다양한 가능성이 열려있는 것으로 예상된다”라고 덧붙였다. kakim@fnnews.com 김경아 기자

삼성전자가 이르면 연내 극자외선(EUV) 노광 공정에 '펠리클'을 투입할 전망이 나오면서 국일제지의 자회사 국일그래핀이 그래핀 펠리클(Pellicle) 부품 개발을 추진 글로벌 기업과 협력 중인 국일제지(078130)가 강세다. 펠리클은 노광공정 중 발생할 수 있는 마스크(반도체 회로가 그려진 판) 오염을 방지하는 부품이다. EUV가 최근 도입된 기술이다보니 삼성전자는 EUV용 펠리클을 그간 사용하지 않았는데, 곧 새로운 소재부품 수요가 창출될 것으로 예상된다. 23일 업계에 따르면 현 EUV 장비에 펠리클을 적용할 방침을 세운 것으로 파악됐다. 일각에서 삼성전자가 차기 EUV 장비인 '하이 NA'부터 펠리클을 활용할 것이란 관측이 제기됐지만 현재의 EUV 양산 라인에 펠리클을 적용할 계획이다. 이 사안에 정통한 업계 관계자는 “EUV 펠리클을 도입하면 공정 속도가 늦어져 삼성전자가 도입을 망설였던 것으로 안다”며 “그러나 최근 투과율 등 펠리클 성능이 개선되고 있어 현재 EUV 양산 라인부터 적용하기로 방침을 정했다”고 전했다. 삼성전자는 이에 자체 개발과 동시에 국내 기업들과 협력하며 EUV 펠리클 다변화를 추진했다. 성과들이 가시화돼 적용 계획을 세우고 있는 것으로 풀이된다. 한편 국일그래핀은 지난해 그래핀 펠리클 부품 개발을 추진한다는 발표에 이어 투과율 85%이상 가능한 기술 개발 성과를 위해 연구중이라고 알려져있어 투자자들의 관심이 몰린 것으로 풀이된다.

[파이낸셜뉴스] 유럽을 방문중인 이재용 삼성전자 부회장이 14일(현지시간) 네덜란드 에인트호번에 있는 반도체 장비회사 ASML 본사를 방문해 극자외선(EUV) 노광장비의 공급확대를 논의했다는 소식에 에프에스티 등 관련주에 매수세가 몰리고 있다. 16일 오전 10시51분 현재 에프에스티는 전일 대비 6.06% 오른 1만7500원에 거래되고 있다. 이날 관련 업계에 따르면 삼성전자는 이 부회장과 경계현 삼성전자 반도체부문장이 피터 베닝크 최고경영자(CEO) 등 ASML 경영진과 만나 EUV 노광장비의 공급확대와 양사 중장기 사업 방향 등에 대해 협의했다고 전일 밝혔다. ASML은 반도체 초미세공정에 필수적인 EUV 노광장비를 전 세계에서 유일하게 생산하는 업체다. 삼성전자와 함께 대만의 TSMC, 미국의 인텔 등이 이 회사의 EUV 장비를 확보하기 위해 경쟁하고 있다. 이 부회장은 최근 "목숨 걸고 하겠다"며 450조원 투자 계획을 밝힌 바 있어 그의 행보와 발언에 투자자 관심이 집중되고 있다. 이에 반도체 EUV 펠리클 개발 및 공정장비 전문기업 에프에스티의 주가가 오름세를 보이는 것으로 풀이된다. 이 회사는 EUV 펠리클 검사장비 제조 자회사 이솔을 자회사로 두고 있다. 이솔은 지난해 4·4분기 EUV 펠리클 투과율을 검사하는 장비(EPTR)를 국내에서 처음으로 상용화하고 삼성전자 EUV 라인에 납품하는 등 괄목할만한 성과를 내고 있다. dschoi@fnnews.com 최두선 기자

[파이낸셜뉴스]블랭크마스크 생산업체 에스앤에스텍이 투과율 90%의 반도체 극자외선(EUV) 공정용 펠리클 개발에 국내 최초로 성공했다는 소식에 강세다. 현재 투과율 90%의 EUV 펠리클은 네덜란드 ASML 한 곳만 개발에 성공한 상태로 양산체제를 갖출 경우 회사 매출도 급격히 커질 것으로 전망된다.  6일 오후 2시 57분 현재 에스앤에스텍은 전 거래일 대비 2650원(7.62%) 오른 3만5200원에 거래 중이다. 이날 업계에 따르면 에스앤에스텍은 최근 풀사이즈 EUV 펠리클 개발을 완료한 후 품질 테스트를 진행하기 위해 ASML과 협의 중이다. 펠리클은 반도체 노광공정에서 포토마스크(웨이퍼에 새길 회로패턴을 그려놓은 판)를 먼지로부터 보호해주는 초박막 필름 형태의 소모성 소재다. 최근 메모리반도체 초미세공정에 EUV 장비를 도입하려는 곳이 늘면서 EUV 전용 펠리클에 대한 수요도 늘어나는 추세다. 에스앤에스텍이 이번에 개발한 풀사이즈 EUV 펠리클은 89~90%의 투과율을 보이는 것으로 알려졌다. 개런티는 다소 보수적으로 잡아 투과율 85%에 달한다. 내구성은 테스트 조건마다 다르지만, 1만~2만 시간 수준이다. 국내에서 투과율 90%를 넘긴 EUV 펠리클을 개발한 건 이번이 처음이다. 국내 업체 중에서는 에스앤에스텍, 에프에스티(FST) 두 업체가 EUV 펠리클을 개발해왔다. 에프에스티도 현재 투과율 90%를 달성하는 EUV 펠리클 개발에 주력하고 있다. 에스앤에스텍은 현재 ASML과 품질 테스트 관련 협의를 진행 중이다. 전세계 EUV 장비를 독점하는 ASML의 테스트를 통과하면, 사실상 '품질 인증'을 받는 것이나 다름없다. 테스트가 순탄하게 완료될 경우 경기도 용인에 있는 부지에 생산설비를 도입해 본격 양산에 돌입할 것으로 예상된다. kmk@fnnews.com 김민기 기자

[파이낸셜뉴스]   SK증권은 "일본 미쯔이화학이 CNT 펠리클 시장에 진입한다는 소식에 전일 국내 EUV 펠리클 관련 업체의 주가 하락폭이 컸다"면서 "다만 일본 유명 소재업체의 진입은 오히려 시장의 가능성을 엿보았다는 의미"라고 평가했다. 14일 SK증권 이동주 연구원은 "미쯔이화학이 2025년 12월 공장 준공을 목표로 CNT 펠리클 시장에 진입한다는 소식이 센티먼트에 악영 향을 미치며 에프에스티가 -8%, 에스앤에스텍 -3.7% 하락했다"면서 "미쯔이화학은 작년 12월 벨기에 연구소인 IMEC과 2세대 카본 계열(CNT) 상용화를 위한 협력 관계를 구축해 이미 시장 진입을 시사한 바 있으며 1세대 폴리실리콘 계열의 EUV 펠리클을 유일하게 판매하고 있는 업체로 2세대 카본 계열로의 제품 진입은 자연스러운 흐름"이라고 밝혔다. 악재로 받아들여졌지만 시장 생태계 조성에서는 긍정적이라는 시각이다. 김 연구원은 "EUV 펠리클이 여전히 미개척 시장임을 감안하면 일본 유명 소재 업체의 진입은 오히려 시장의 가능성을 엿보았다는 의미와 함께 생태계 조성 차원에서 긍정적"이라며 "주요 제조사의 전공정 미세화도 진행 중으로 High NA 장비에 대응하는 펠리클 요구도 커지고 있다"고 했다. 이어 "고객사가 양산용에 본격 적용하고 싶어하는 제품은 2세대(카본 계열) 펠리클"이라며 "국내 업체인 에프에스티와 에스앤에스텍 역시 2세대 제품을 준비 중이고 개발 속도를 감안하면 오히려 국내 업체는 선두 주자의 위치"라고 덧붙였다. cynical73@fnnews.com 김병덕 기자

[파이낸셜뉴스]  삼성전자와 SK하이닉스가 세계 최대 반도체 장비 기업중 하나인 네덜란드 ASML과 협력을 강화키로 하고 차세대 EUV를 기반으로 초미세 제조 공정을 공동개발 한다는 소식에 EUV(극자외선) 수혜주 찾기에도 분주하다. 13일 재계 및 대통령실에 따르면 삼성전자와 ASML은 12일(현지시간) 네덜란드 남동부 벨트호벤에 있는 ASML 본사에서 차세대 반도체 제조 기술 연구·개발(R&D) 센터 설립 MOU를 체결했다. 이에 따라 양사는 내년부터 공동으로 1조원을 투자해 국내 차세대 반도체 제조기술 R&D 센터를 설립 운영한다. 대통령실은 “이번 R&D 센터는 차세대 EUV를 기반으로 초미세 제조 공정을 공동 개발하게 된다”라고 설명했다. 무엇보다 글로벌 파운드리(반도체 위탁생산) 1위인 대만 TSMC의 아성을 무너뜨리려면 삼성전자로선 EUV 장비 확보를 최대 과제 중 하나로 놓을 수밖에 없다. 이재용 회장이 2020년 10월에 이어 지난해 6월에도 직접 ASML 본사를 찾아 피터 베닝크 ASML 최고경영자(CEO) 등 임직원을 회동하는 등 공을 들이는 이유다. 이와 관련, 업계 관계자는 “ASML이 내년 말 차세대 장비인 하이 NA EUV 장비 ‘트윈스캔 EXE:5200’을 출시할 예정”이라며 “파운드리 업계에서 신형 EUV 장비 확보 경쟁이 더욱 치열해질 전망”이라고 전했다. 한편 SK하이닉스와 ASML은 이날 EUV용 수소가스 재활용 기술 공동개발 MOU를 맺었다. EUV 장비 내부의 광원 흡수 방지용 수소가스를 소각하지 않고 재활용하는 기술을 공동 개발하겠다는 것이다. 이같은 소식에 EUV관련 기술력을 가진 에프에스티, 아이엠티, 한국알콜 등에도 투자자들의 관심이 쏠리고 있다. 반도체 설비 소재업체 에프에스티(FST)는 극자외석(EUV) 펠리클 관련 검사장비 등을 개발 또는 생산 중이다. EUV 펠리클은 반도체 수탁생산(파운드리) 업체 쪽에서 활용이 늘어나는 추세다. TSMC는 EUV 펠리클을 내재화한 것으로 알려졌다. 삼성전자는 일부 라인에서 시험 중인 것으로 전해졌다. 삼성전자는 지난 9월30일 기준 에스에프티 지분 7.00%를 보유했다. 펠리클은 회로가 새겨진 포토마스크를 보호하는 초박막 필름이다. 실리콘웨이퍼에 포토마스크를 올리고 빛을 쬐면 패턴이 형성된다. 이 과정에서 펠리클은 오염을 최소화해 포토마스크를 수차례 더 사용할 수 있도록 한다. EUV 펠리클은 장당 수억원에 달하는 EUV 마스크를 보호하기 위한 부품이다. 아이엠티는 레이저와 이산화탄소를 활용한 건식 세정 장비 사업과 국내 최초의 극자외선 마스크 레이저 베이킹 장비(EUV Mask Laser Baking) 장비 사업을 영위하고 있다. 특히 아이엠티는 국내 유일하게 EUV 마스크 레이저 베이킹 장비 개발에도 성공했다. 글로벌 반도체 기업들이 미세 공정을 위해 EUV 공정을 도입하는 사례가 늘어날 것으로 전망되고 있어 성장 가능성이 크다는 것이 회사 측 설명이다. 이 외에도 한국알콜의 경우 자회사인 신디프가 EUV공정용 PGMEA를 고순도로 정제해 관련주로 거론된다. kakim@fnnews.com 김경아 기자

[파이낸셜뉴스]블랭크마스크 전문 기업 에스앤에스텍은 투자 효율성 재고와 경영 환경 변화에 맞춰 신규시설투자 계획을 2단계로 나눠 투자 기간을 변경한다고 4일 밝혔다. 에스앤에스텍은 최근 글로벌 경제의 불확실성 확대로 다수 반도체 업체들의 투자계획이 조정에 들어감에 따라 EUV 신사업과 기존 블랭크 마스크 사업의 연관성 및 재무적 안정성을 고려해 투자 기간 조정에 나선다. 에스앤에스텍은 사업 확장과 EUV 관련 소재 양산을 위해 공장 설계 및 건축 허가 등 행정 절차를 마치고 지난 3월 200억원을 투입해 연내 완공을 목표로 경기도 용인에 공장을 신축하는 시설 투자를 할 계획이었다.  에스앤에스텍은 4일 이사회를 열어 용인 공장 신축 완료 시점을 2년 연기하기로 결정하고 이를 공시했다. 변경된 투자계획에 따라 1차로 43억 원을 투입해 기존 대구 공장 클린룸 증설을 연내 완료해 EUV 블랭크 마스크 양산 준비를 진행하는 동시에 EUV 펠리클 초도 양산을 위한 설비도 함께 구축할 예정이다. 2차로 2024년 12월까지 경기도 용인에 양산공장을 신축할 계획이다. EUV용 블랭크 마스크는 EUV 노광 공정에서 웨이퍼에 회로를 새기는 데 활용되는 패턴 마스크의 원판으로 나노미터(nm) 수준의 얇은 다층막(멀티 레이어) 위에 흡수체인 기반 합금을 다시 적층하는 과정을 거쳐 제작된다. 에스앤에스텍은 올해 6월 EUV 블랭크 마스크의 결함 개선을 위한 신규 검사설비를 도입했으며 다층막 증착용 양산 장비도 연내 도입해 2023년까지 EUV 블랭크 마스크 양산 준비를 완료할 계획이다. EUV용 펠리클의 경우 2021년 90% 투과율의 펠리클 개발 완료에 이어 현재 92% 투과율의 펠리클 개발과 함께 기관 및 업체와 평가를 진행 중에 있으며 향후 시장의 요구 시기에 맞춰 개발과 양산 라인 구축을 진행할 계획이다. 에스앤에스텍 관계자는 "이번 투자 계획은 EUV 블랭크 기술 개발 가속화를 위해 대구 공장의 기존 양산 설비를 공유하는 신규 설비를 구축해 불필요한 중복투자를 막고 자원을 효율적으로 운용하기 위한 것"이라고 설명했다. EUV 펠리클 사업에 대해서는 "용인공장 신축 투자 관련 종료 시점 연장을 제외하고 기존에 예정된 투자는 변동 없이 진행될 예정"이라고 말했다. kmk@fnnews.com 김민기 기자

[파이낸셜뉴스] 특수지 전문기업 국일제지는 자회사 국일그래핀이 그래핀 펠리클(Pellicle) 부품 개발 추진에 힘입어 글로벌 기업과의 협력 방안 논의를 진행할 것이라고 28일 밝혔다. 앞서 국일그래핀은 지난달 그래핀 펠리클 부품 개발을 추진한다는 발표에 이어 투과율 85%이상 가능한 기술 개발 성과를 위해 연구중이며 앞으로의 성과가 기대된다고 회사측은 전망하고 있다. 펠리클은 빛으로 반도체 웨이퍼에 회로를 찍는 노광공정에 사용되는 오염방지 부품으로 포토마스크 교체 주기를 줄여 공정비용 절감과 생산성 향상에 효과적이다. 업계에서는 펠리클 도입을 필수로 보고 있어 굴지의 대기업들도 상용화를 위한 투자확대, 자체 개발과 외부 협력을 동시에 추진하고 있다. 특히 EUV 펠리클은 수십nm 미만의 얇은 두께를 유지하면서도 90% 투과율, 균일성, 반사율 등 다양한 사양을 동시 충족해야 한다. 어려운 조건에도 불구하고 또한 EUV공정을 적용한 반도체 생산량과 EUV 레이어 수가 증가하면서 펠리클 및 검사 장비의 수요도 증가하고 있다. 현재 펠리클의 연 시장규모는 4조 5천억원 수준에 이를 것이라 추정하고 있다. 회사 관계자는 “자사에서 컨퍼러스 콜 및 지난주 해외방문을 통해 다국적 기업 A사 등과 지속적 논의를 진행하고 있다”며 “협력방안 추진을 위한 자사 방문 일정들이 가시적으로 잡혀지고 있어 향후 시장 진입시점의 구체화 되는 터닝포인트 계기가 될 것”이라고 말했다. kakim@fnnews.com 김경아 기자

[파이낸셜뉴스] 특수지 전문기업 국일제지는 자회사 국일그래핀이 국내외 업체와 협업을 통해 현재 그래핀 기반 펠리클(Pellicle) 부품 개발에 나선다고 11일 밝혔다. 펠리클은 빛으로 반도체 웨이퍼에 회로를 찍는 노광공정에 사용되는 오염방지 부품으로 포토마스크 교체 주기를 줄여 공정비용 절감과 생산성 향상에 효과적이다. 펠리클은 EUV(극자외선) 장비에서 높은 투명성과 고온 저항성이 요구된다고 알려져 있다. 회사 관계자는 “EUV펠리클 소재 요구 특성이 매우 까다로워 국내외에서 실리콘 소재, 은나노, 그래핀, 탄소나노튜브 등 여러 신소재와 복합물질을 펠리클 소재로 응용하고자 연구개발되고 있다”며 “그 중 그래핀은 높은 투광성과 강도 등으로 EUV펠리클에 유용한 재료다”고 설명했다. 한편 국일그래핀은 국내외 유일의 비전사 CVD 박막 그래핀 합성 기술을 보유하고 있다. 이 회사는 보유기술을 통해 반도체 EUV설비 필수 부품 중 하나인 펠리클 뿐만 아니라 투명전극, 디스플레이 등 그래핀을 활용한 다양한 분야에서 다수 기업과 협업을 통한 연구개발에 박차를 가하고 있다. kakim@fnnews.com 김경아 기자

[파이낸셜뉴스]블랭크마스크 전문 기업 에스앤에스텍이 산업은행에서 550억원 규모의 시설자금 한도 승인을 받았다고 27일 밝혔다. 정부 지정 '소부장(소재·부품·장비) 강소기업'인 에스앤에스텍은 산업은행에서 K-반도체 육성을 위한 특별자금 성격의 시설자금 대출 한도 승인을 받고 차세대 반도체 신사업 투자를 위한 재원을 확보, 양산 준비에 나선다. 에스앤에스텍은 생산시설 확보를 위해 경기도 용인에 부지를 확보하였으며 올해 7월 EUV용 블랭크마스크 및 펠리클 기술 개발과 양산을 위한 신규 장비 투자를 시작으로 양산 설비 확충을 위한 추가 투자 재원을 확보하게 됐다. 에스앤에스텍은 2002년 블랭크마스크를 국산화해 국내 주요 고객사인 삼성전자, SK하이닉스뿐만 아니라 중국, 대만에 제품을 공급하고 있으며, 반도체와 디스플레이용 블랭크마스크를 모두 생산하는 국내 유일한 기업이다. 최근 반도체 초미세공정에 EUV 장비를 도입하려는 곳이 늘면서 EUV 전용 펠리클에 대한 수요가 늘고 있지만 아직 전 세계적으로 양산에 성공한 기업은 없는 상태다. 에스앤에스텍은 투과율 90%의 반도체 극자외선(EUV) 펠리클 개발을 완료하고 양산을 위한 품질 테스트를 외국의 A사와 협의 준비 중이다. 에스앤에스텍 관계자는 "이번 시설자금 한도 승인 결정은 EUV 펠리클 양산 시설 및 EUV 블랭크마스크 장비를 추가 확보하기 위한 것"이라며 "확보한 재원을 활용해 순차적으로 공장 및 클린룸, 기계장비 구매 등에 사용될 예정"이라고 말했다. 이번 특별자금 대출 한도 승인은 장기차입금이라는 공시의무대상이 아니다.   kmk@fnnews.com 김민기 기자